李爱国回答：“目前国内制造晶体管使用的是合金扩散工艺，原材料是锗。如果换成高精度硅的话，使用点接触式，可以完成十微米的工艺目标。”
夏中肃教授仔细一想，还真是这么回事儿。
目前国内的1013所曾经拿高精度硅做过结晶实验，只不过因为成本较高，没有继续研究下去。
夏中肃教授坐了回去。
吉洛蒂站起身发问：“亲爱的爱国同志，制造你设计出的集成电路，应该需要特殊的技术吧？
要不然的话，就算是用最好的技术人员，不足以支持这么精细的图案。”
李爱国道：“我已经设计出了一种名为光刻的微电路制造技术。”
“光，光刻技术？”这个陌生的词汇立刻吸引了那些研究员们的注意。
也难怪，要知道光刻技术是六十年代才发明的，真正成熟并用于制造芯片，要到七十年了。
李爱国解释道：“大家都是高级知识分子，应该知道硅元素的排列容易受到光照的影响，光刻技术的基本原理是利用光通过掩模版将图案转移到硅片上。
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